In una delle scorse notizie sottolienavamo come dopo la bolla dei primi anni 2000 il mercato degli apparecchi fotografici stia tornando alla sua dimensione naturale, in alcuni casi molto più ridotta rispetto al passato (-84% per le compatte rispetto a 5 anni fa), e come diversi marchi stanno spostando sempre di più le loro attenzioni altrove.
La litografia per semiconduttori è una voce di bilancio molto importante per due colossi come Canon e Nikon e lo è diventata recentemente anche per un marchio come Zeiss. È qui che ora si sono spostate le battaglie tra tedeschi e giapponesi, come testimonia lo scambio di accuse che da un lato vede Nikon e dall'altro la tedesche Carl Zeiss AG e l'olandese ASML.
La prima mossa l'ha fatta Nikon, accusando i tedeschi di infrazione di brevetti nell'ambito della litografia per la produzione di semiconduttori. Questi ultimi hanno dichiarato di aver cercato per diversi anni una negoziazione con Nikon per estendere accordi cross-license per l'utilizzo reciproco delle tecnologie coperte da brevetto e poi, di fronte all'attacco diretto, sono passati al contropiede, citando in giudizio i giapponese per l'infrazione di 10 dei loro brevetti.
Stando a Nikon qualcosa di simile era già avvenuto nel 2004, con ASML e Carl Zeiss obbligati a pagare, rispettivamente, 87 e 58 milioni di dollari di risarcimenti. Staremo a vedere come evolverà la disputa attuale.
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